Série industrial: ZS8100-H2O

Analisador de umidade de processo

Medição de umidade em níveis de traços com TDLAS para aplicações com gás natural e processos industriais

Faixa de medição
0,1 ppm – 30 %vol H₂O
Exatidão
±1 ppm ou ±1% da leitura
Resposta
<2s T90
Saída
4-20mA, Modbus, HART
Visão geral do produto

Visão geral

O ZS8100-H2O usa espectroscopia de absorção a laser por diodo sintonizável para medir a umidade em tempo real, de níveis abaixo de ppm a níveis percentuais — adequado ao monitoramento da desidratação de gás natural, à verificação da secagem de gás de processo e à otimização da combustão.

Principais destaques
  • Medição óptica com laser de diodo sintonizável
  • Autovalidação com célula de referência interna
  • Caminho óptico aquecido evita condensação
  • Faixa dupla configurável (traços + percentual)
  • Opção de invólucro para área classificada ATEX Zona 1 (zona/grupo de gases conforme certificado)
  • Diagnóstico remoto via Modbus TCP / OPC-UA
  • A capacidade de medição de H₂O por TDLAS também está disponível no formato de bancada e no módulo laser TDLAS OEM (ambos sujeitos à análise do projeto) — mesma física, formatos diferentes

Especificações técnicas completas

Desempenho principal

Indicadores de desempenho principais do ZS8100-H2O
Indicador Valor Status
Faixa de medição 0,1 ppm – 30 %vol H2O confirmado
Exatidão ±1 ppm ou ±1% da leitura confirmado
Resposta <2s T90 confirmado
Saída 4-20mA, Modbus, HART confirmado

Especificações

Especificações do ZS8100-H2O
EspecificaçãoValor
Faixa de medição0,1 ppm – 30 %vol H₂O
Exatidão±1 ppm ou ±1% da leitura
Resposta<2s T90
Saída4-20mA, Modbus, HART

Ambientes de aplicação

Ambientes de processo comuns nos quais este modelo é avaliado.

Desidratação de gás natural (TEG/peneira molecular)
Verificação da secagem de gás de processo
Umidade do gás de combustão para otimização da taxa de calor
Monitoramento de gases UHP para semicondutores

Escopo da certificação

As normas técnicas são apresentadas com escopo e status para que a análise de engenharia possa verificar o invólucro, a área e os requisitos de segurança aplicáveis.

Matriz do escopo de certificação do ZS8100-H2O
Norma Escopo Variante Status Documento
CE Conformidade CE autodeclarada segundo normas harmonizadas (LVD / EMC) Variante do projeto autodeclarado Declaração de conformidade disponível mediante solicitação
ATEX Opção de invólucro para área classificada; zona ATEX e grupo de gases confirmados conforme certificado Variante do projeto condicional Trecho do certificado disponível mediante solicitação quando incluído no escopo do pedido
CE ATEX

Solicitar documentação

Solicite fichas técnicas, manuais do usuário, certificados e notas de aplicação deste modelo.

Notas de evidência

nota de aplicação

Arquitetura TDLAS para medição de umidade em gases de processo e de alta pureza

O conjunto de aplicações inclui desidratação de gás natural, secagem de processo, umidade em gás de combustão e monitoramento de gases UHP. A arquitetura se baseia na absorção de H2O por TDLAS, no controle aquecido do caminho óptico e na avaliação da matriz da amostra, quando CO2, CH4 ou vapor de água saturado podem afetar a linha selecionada.

Detalhes técnicos e de engenharia

Detalhes técnicos e de engenharia

Detalhes complementares de engenharia — expanda cada tópico para consultar as informações completas sobre medição, condições operacionais, sistema de amostragem, calibração e manutenção.

01 Princípio de medição e limites

Limites da medição

A TDLAS mede a absorção de H2O em uma linha laser selecionada para monitorar a umidade, de níveis traço a percentuais, em aplicações com gases de processo e de alta pureza.

Requisitos

  • Caminho óptico aquecido e controle do caminho da amostra para evitar condensação
  • Análise da matriz da amostra em gases de processo ricos em CO2, CH4 ou hidrocarbonetos
  • Verificações de autovalidação com célula de referência para operação prolongada em linha

Interferentes e limites

  • A sobreposição espectral de CO2 e CH4 pode exigir seleção de linha específica para a matriz da amostra ou compensação
  • Condições de alta umidade próximas à saturação podem exceder a faixa de absorção selecionada
  • A condensação no caminho óptico altera a base de medição
  • Amostra abaixo do ponto de orvalho sem condicionamento aquecido
  • Umidade acima da faixa declarada de 30 %vol
  • Os limites de pressão de processo e de temperatura ambiente não constam na especificação publicada atual
02 Condições operacionais

Use estes limites como dados de seleção e, em seguida, confirme as condições da amostra, a exposição ao ambiente e os materiais antes de solicitar uma cotação.

Ponto de orvalho
A aplicação em relação ao ponto de orvalho depende de cada caso; a especificação atual informa que o caminho óptico aquecido evita a condensação
Fora destas condições
  • Amostra condensante sem linha aquecida ou análise do caminho óptico aquecido
  • Umidade acima da faixa declarada de 0,1 ppm – 30 %vol H2O
  • Gás rico em CO2 ou CH4 sem análise da sobreposição espectral
03 Limites do sistema de amostragem

O modo de amostragem, os componentes de condicionamento e as exclusões definem onde termina a responsabilidade pelo analisador e começa a do sistema de amostragem.

Modo de amostragem
extrativo
Componentes incluídos
  • caminho óptico aquecido
  • célula de referência interna
  • linha de amostragem extrativa
  • sistema de amostragem aquecido ZS-SCS-800, quando necessário
Exclusões dos limites
  • Linhas de amostragem úmidas sem aquecimento para gás de combustão ou gás de processo saturado
04 Calibração e validação específico da unidade

Método, intervalo e requisitos de rastreabilidade da calibração deste analisador.

Método de zero / span

Os recursos listam a autovalidação com célula de referência interna; a sequência completa de zero/span não está especificada

Intervalo

Não informado na especificação publicada atual

05 Manutenção e peças de reposição específico da unidade

Tarefas de manutenção de rotina, consumíveis e requisitos de acesso deste analisador; os intervalos exatos dependem de cada unidade.

Tarefas de manutenção
  • Verifique o funcionamento do caminho óptico e da linha de amostragem aquecidos antes de operações que exijam controle rigoroso da umidade
  • Execute verificações de validação da célula de referência interna conforme o cronograma de controle de qualidade da unidade
  • Revise o condicionamento da amostra ao alternar entre aplicações de traços, percentuais, gás natural e gás de combustão
Consumíveis
  • Filtro da linha de amostragem ou peças de condicionamento, conforme a configuração de amostragem extrativa
Perguntas de seleção

Perguntas frequentes

O que o ZS8100-H2O mede e como?

O ZS8100-H2O usa TDLAS — espectroscopia de absorção a laser por diodo sintonizável — para medir a absorção de H₂O em uma linha de laser selecionada e monitorar a umidade, de níveis de traços a percentuais, em aplicações com gases de processo e de alta pureza. A faixa publicada é de 0,1 ppm – 30 %vol H₂O, com exatidão de ±1 ppm ou ±1% da leitura e resposta T90 de <2s.

Qual condicionamento da amostra o ZS8100-H2O exige?

O equipamento exige um caminho óptico aquecido e controle do caminho da amostra para evitar condensação e opera em configuração extrativa, que inclui uma célula de referência interna e uma linha de amostragem extrativa. Quando necessário, o sistema de amostragem aquecido ZS-SCS-800 é a opção compatível para condicionamento da amostra. Linhas de amostragem úmidas sem aquecimento para gás de combustão ou gás de processo saturado ficam fora dos limites do sistema de amostragem.

Quais gases ou condições podem interferir na leitura de umidade?

A sobreposição espectral de CO2 e CH4 pode exigir seleção de linha específica para a matriz da amostra ou compensação; por isso, recomenda-se analisar a matriz em gases de processo ricos em CO2, CH4 ou hidrocarbonetos. Condições de alta umidade próximas à saturação podem exceder a faixa de absorção selecionada, e a condensação no caminho óptico altera a base de medição.

Quais aplicações estão fora das condições operacionais do ZS8100-H2O?

Ficam fora das condições operacionais: amostra condensante sem linha aquecida ou análise do caminho óptico aquecido; umidade acima da faixa declarada de 0,1 ppm – 30 %vol H₂O; e gás rico em CO2 ou CH4 sem análise da sobreposição espectral. Os limites de pressão de processo e de temperatura ambiente não constam na especificação publicada atual e devem ser confirmados antes da cotação.

Como o ZS8100-H2O é calibrado e validado?

Os recursos listam a autovalidação com célula de referência interna; a sequência completa de zero/span não está especificada, e o intervalo de calibração não consta na especificação publicada atual. Portanto, a frequência de validação depende de cada unidade e deve seguir o cronograma local de controle de qualidade.

Quais aprovações o ZS8100-H2O possui?

A conformidade CE deste modelo é autodeclarada segundo as normas harmonizadas LVD / EMC. Há uma opção de invólucro ATEX Zona 1 para área classificada, com marcação Ex, zona e grupo de gases definidos conforme o certificado — portanto, durante a análise de engenharia, a classificação do invólucro e da área aplicável deve ser confirmada em relação à instalação antes de fechar o pedido.

Avalie o ZS8100-H2O conforme as condições da unidade

Informe a faixa do gás, a temperatura e a pressão da amostra, a umidade e os requisitos de certificação antes da seleção final do modelo.